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真空鍍膜系統 > 自動預載系統 |PRODUCTS
| 預載式濺鍍系統-1 |
| 以預載腔體放置或取出被鍍物，讓濺鍍腔體可保持高真空狀態，以提高鍍膜品質，節省抽真空時間。 |
規格
1．2"~6"濺射源
2．極限真空度：10-7 Torr
3．APC自動控壓系統
4．質量流量控制器
5．DC/DC PULSE/HIPIMS/MF/RF/電源供應器
6．RF/DC 偏壓
7．基座旋轉加熱系統
8．ION SOURCE CLEAN SYSTEM 離子轟擊系統
9．離子助鍍系統
10．OES監測系統
2．極限真空度：10-7 Torr
3．APC自動控壓系統
4．質量流量控制器
5．DC/DC PULSE/HIPIMS/MF/RF/電源供應器
6．RF/DC 偏壓
7．基座旋轉加熱系統
8．ION SOURCE CLEAN SYSTEM 離子轟擊系統
9．離子助鍍系統
10．OES監測系統